一、前言
通過侵蝕材料的特性來進行雕刻的一種液體。 目前已經使用的蝕刻液類型主要有六種類型:酸性氯化 銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。其中氯化鐵蝕刻液的刻蝕速度主 要受刻蝕溫度、鹽酸含量和鐵離子含量的影響。其中蝕刻液中鹽酸添加量的影響:在蝕刻液中加入鹽酸， 可以抑制FeCl3 水解，并可提高蝕刻速率，尤其是當溶銅量達到 37.4g/L 后，鹽酸的作用更明顯。但是鹽 酸的添加量要適當，酸度太高，會導致液態光致抗蝕劑涂層的破壞。本次實驗采用JH-T6全自動電位滴定 儀按照其電位突躍點確定終點，測定其鹽酸的含量，驗證實驗方案的可行性。
二、儀器與試劑
2.1、儀器
JH-T6全自動電位滴定儀，復合 PH 電極，分析天平等
2.2、試劑
3mol/L KF 溶液，0.1mol/L 氫氧化鈉標準滴定液
三、實驗方法
3.1、實驗過程：
準確稱取 1g 待測試樣（精確至 0.0001g）,依次加入 50mL 去離子水，25mL 3mol/L 的 KF 溶液，混合 均勻，用標定好的氫氧化鈉滴定液滴定至電位突越終點，同時做空白試驗，計算鹽酸含量。
3.2、儀器參數
儀器參數，如表 1 所示：
表 1 滴定儀參數設置
滴定類型： | 動態滴定 | 方法名： | 蝕刻液中鹽酸測定 |
滴定管體積： | 10mL | 樣品計量單位： | g |
工作電極： | 復合 PH 電極 | 參比電極： | 無 |
攪拌速度： | 7 | 預攪拌時間： | 5s |
電極平衡時間： | 4s | 電極平衡電位： | 1mv |
滴定速度： | 標準 | 滴定前平衡電位： | 6mv |
顯示單位： | mv | 結束體積： | 20mL |
預滴定添加體積： | 0（也可適當設置） | 最小添加體積： | 0.02mL |
電位突躍量： | 500mV | 預控 mv 值： | 0 |
相關系數： | 3.655 | 結果單位： | % |
滴定劑名稱： | NaOH | 理論濃度： | 0.1580 |
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