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橢偏儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備。橢偏光譜不直接測(cè)算光強(qiáng)，而是從相位空間尋找材料的光學(xué)信息，在材料學(xué)領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，特別是薄膜的各種特性的測(cè)量。
基本原理：
偏振光在介質(zhì)的表面反射時(shí)，其偏振狀態(tài)將發(fā)生變化，通過測(cè)量這些變化并建模分析，可以獲得介質(zhì)材料的光學(xué)常數(shù)和結(jié)構(gòu)參數(shù)信息。
應(yīng)用領(lǐng)域：
1.固體薄膜光學(xué)性質(zhì)的測(cè)量：應(yīng)用橢偏儀可對(duì)單層吸收膜、雙層膜及多層膜進(jìn)行測(cè)量，得到材料的光學(xué)常數(shù)折射率N和吸收系數(shù)K，進(jìn)而得到其介電常數(shù)。近年來也實(shí)現(xiàn)了對(duì)離子注入損傷分布的測(cè)量、超晶格、粗糙表面、界面的測(cè)量。
2.物理吸附和化學(xué)吸附：應(yīng)用橢偏儀可以現(xiàn)場(chǎng)且無損地研究與氣態(tài)、液態(tài)周圍媒質(zhì)相接觸地表面上吸附分子或原子形態(tài)的問題。
3.界面與表面的應(yīng)用：橢偏儀廣泛用于研究處于各種不同環(huán)境中的材料的表面的氧化和粗糙程度，以及材料接觸界面的分析。例如金屬和半導(dǎo)體接觸的研究。
4.電化學(xué)：離子吸附、陽極氧化、鈍化腐蝕及電拋光等電化學(xué)過程，可以現(xiàn)場(chǎng)深入地研究電極-電解液界面過程。
5.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域中，研究薄膜生長過程，薄膜厚度，半導(dǎo)體的表面狀況以及不同材料的界面情況，離子的注入損傷分布等。
6.一些高技術(shù)材料的研究及其它新領(lǐng)域：高溫超導(dǎo)材料、低維材料、導(dǎo)電聚合物以及光電子學(xué)、聲光學(xué)和集成光學(xué)、激光技術(shù)等領(lǐng)域。
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