LST-208型白光共焦法平面度測試儀測量原理本機采用白光共聚焦傳感器掃描法進行表面形貌測量，經過測量可以得到Wafer的表面幾何尺寸特征信息
本機采用白光共聚焦傳感器掃描法進行表面形貌測量，經過測量可以得到 Wafer 的表面幾何尺寸特征信息。
本機主要用于測量碳化硅、藍寶石、玻璃、砷化鎵、磷化銦、硅、鍺、金屬、陶瓷等平板材料的微觀形貌特征。我們使用 Semicon 定義來表述 wafer 形貌，如：THK（厚度）、TTV（厚度變化）、TIR、WARP（翹曲度）、SORI、BOW（彎曲度）等。
分辨率（Resolution）： 0.05μm
傳感器重復性（Repeatability）： 0.20μm
測量精度（Accuracy）： ±0.5μm（雙拋片）
測量點數（Data Points）： 1 個/50μm
厚度精度（Thickness）: ±0.5μm（雙拋片）
半自動型速度（Speed）: 35s/片（米字型）
3、環境要求
儀器外擴/重量：L920*W800*H1370(MM)/450Kg 電腦/顯示器工作臺：L700*W700*H750(MM)
電源：AC220V/50HZ/1KW（帶地線/空間無強磁干擾） 潔凈度：千級或百級（環境內無酸堿氣體）
地面：隔振地面
溫/濕度：23℃±2℃/≤70%；無水氣凝結
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