LINSEIS L75V 垂直模式熱膨脹儀系列的開發是為了滿足世界各地學術界和實驗室研究的需求。該系列熱膨脹儀可以測定固體、液體、粉末和膠體的熱膨脹系數。由于垂直系統的“零摩擦”的設計保證了測量結果的準確性，該系統的*的垂直設計適合低或超低膨脹系數材料。該系列熱膨脹儀能夠在真空條件下，氧化性和還原性氣氛中測量。
LINSEIS L75V 垂直模式熱膨脹儀系列的開發是為了滿足世界各地學術界和實驗室研究的需求。該系列熱膨脹儀可以測定固體、液體、粉末和膠體的熱膨脹系數。由于垂直系統的“零摩擦”的設計保證了測量結果的準確性，該系統的*的垂直設計適合低或超低膨脹系數材料。該系列熱膨脹儀能夠在真空條件下，氧化性和還原性氣氛中測量。
該系統可以用于單樣品或差示條件下測量以獲得更高的精度或樣品通量。該系列熱膨脹儀的可選機械和電子部件便于拆卸在手套箱中的測量。
新低溫爐配件：溫度可降至10K
LINSEIS L75垂直超低溫操作系統（零摩擦）。該系統提供一個寬泛的溫度范圍（-260°C ——+220°C ），多種樣品支架可選。在真空或程序控制的氧化環境或還原環境中進行測量時，仍能保證高精度和易操作性。
可以測量以下的物理性質：
熱膨脹系數，線性熱膨脹，物理熱膨脹，燒結溫度，相變，軟化點，熱分解溫度，玻璃化轉變溫度。
型號 | DIL L75 垂直 |
溫度范圍 | -263 至 2800°C |
LVDT: |
|
Delta L 分辨率 | 0.03 nm |
測量范圍 | +/- 2500 µm |
接觸壓力 | 10 mN 至 1 N |
Optical Encoder: |
|
Delta L 分辨率: | 0.1 nm |
測量范圍 | +/- 25000 µm |
樣品長度自動檢測 | 是 |
壓力調節 | 是 |
接觸壓力 | 10 mN 至 5N |
多爐體配置 | 可配置三爐體 |
電加熱爐 | 包含 |
氣體計量裝置 | 手動氣體計量或質量流量控制，1/3或更多氣路 |
接觸壓力調整 | 包含 |
單桿/雙桿熱膨脹 | 可選 |
軟化點檢測 | 包含 |
密度測定 | 包含 |
L-DTA: | 可選 (至 2000°C) |
速率控制燒結（RCS）： | 包含 |
熱分析數據庫 | 包含 |
電恒溫探頭 | 包含 |
低溫附件 | LN2, Intra |
真空密閉設計 | 是 |
真空裝置 | 可選 |
OGS吸氧系統： | 可選 |
所有的LINSEIS熱分析設備都是用計算機控制的，各個軟件模塊僅在Microsoft® Windows® 操作系統上運行。完整的軟件包括3個模塊：溫度控制，數據采集和數據分析。與其他熱分析系統一樣，該用于熱膨脹測量的32位Linseis軟件可以實現所有測量準備、實施和評估的基本功能。經過專家和應用工程師的努力，LINSEIS開發出這款容易操作且實用的軟件。
以下是我們提供配件的簡要摘錄：
爐體選擇：
附件：
聚合物，陶瓷/玻璃/建材，金屬/合金，無機物
陶瓷，建材和玻璃工業，汽車/航空/航天，企業研發和學術科研，金屬/合金工業，電子工業
該熱膨脹儀是用于確定玻璃陶瓷材料熱膨脹系數（CTE）和軟化點的優良方法。除了可以得到膨脹和膨脹系數（CTE），還可以獲得膨脹的一階導數。一階導數為零時可以確定熱膨脹的大值和材料的軟化點。
在高科技陶瓷生產過程中，對燒結過程模擬引起人們的廣泛興趣。當使用可選軟件包——燒結速率控制軟件（RCS）時，根據PALMOUR III理論可以利用膨脹儀進行編程控制燒結。以下是氧化鋯的燒結過程。終獲得100％的密度。在達到終密度時初始加熱速率也隨之降低。
|
|
|
|
|
|
*您想獲取產品的資料：
個人信息：
